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战争中的洁净技术

新兴国家让洁净技术得以腾飞
1970年1K位的集成电路进入大生产时期,中国不久也开始集成电路生产,使洁净技术得以腾飞。日本从60年代初到70年代空气洁净技术产品迅猛发展,1971年突然急剧降到低谷,但次年又突然飞速发展起来。这还和药品生产对洁净室的需求进入新阶段有关,因为1969年世界卫生组织正式制订了GMP(药品生产质量管理规范 )。
1980年大规模和超大规模集成电路的发展进一步促进空气洁净技术的发展,其中集成电路上的最细光刻线条宽度进入2~3μm,70年代末和80年代初美国、日本研制成0.1μm级超高效过滤器,于是既对洁净室提出高要求,也有了高手段。1985年日、美、西欧交货产品总值约29亿美元,1988年达到73亿美元,到80年代末仅日本就突破5000亿日元即35亿美元。
世界范围内洁净室技术发展
日本1985年这方面的投资中电子占48.1%,精密工业占19.9%,药品14.8%,医疗占10.3%,食品占5.5%,航空宇宙占0.2%,印刷占0.5%,化学占0.1%,农林畜产占0.1%,研究所占0.1%,其他占0.2%。其中医药食品共占30%以上,工业洁净室占68%,所以生物洁净已近工业洁净投资的一半。
但是随着形势的变化,90年代促进洁净室技术大发展的动力将是电子工业即集成电路的生产,其原因为:
超大规模集成电路生产取得了新发展,80年代集成电路最细光刻线条宽度在微米级,而80年代和进入90年代则达到亚微米,到世纪末要求为0.1~0.2μm,集成度达1KM。这是什么意思?刚才说过,1970年1K位电路进入大生产,相当于~20mm2大的硅片上有2万个左右元件,1981年60 mm2硅片上有60万个元件,到了1986年1M集成度时,就相当于200个元件,到1KM集成度时就可能有20亿个元件集中在一块硅片上,而要求控制的尘粒必须为此光刻线条的1/10,今天已要求0.1μm10级,将来则要求0.01μm10级也并不是耸人听闻了。美国在1988年有185.8万m2洁净室,其中0.1μm10级即占十分之一。

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